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A modular and generic monolithic integrated MEMS fabrication process
M. Linares Aranda, W. Calleja Arriaga, A. Torres Jacome, C.R. Báez Álvarez.
Abstract: A modular and generic, monolithic integrated MEMS fabrication process is presented to integrate microelectronics (CMOS) with mechanical microstructures (MEMS). The proposed monolithic integrated fabrication process is designed using an intra -
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Síntesis por el método Pechini y caracterización estructural, óptica y termoeléctrica de CuAlO2
C. Estrada-Moreno, F. Caballero-Briones, C. Guarneros-Aguilar, M. Pacio-Castillo.
Resumen: El aluminato de cobre (CuAlO 2 ) es un material termoeléctrico semiconductor tipo - p, que cristaliza en fase delafosita a temperatura de 1100 °C. En este trabajo se sintetizaron dos muestras por el método Pechini y se calcinaro
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Abstract: We analyze the influence of three combined effects on the contact resistance in organic - based thin film transistors: a) the active layer thickness, b) device architecture and c) semiconductor degradation. Transfer characteristics and parasitic serie s res
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